Установка вакуумная специальная модели FORVAK-1
Установка предназначена для нанесения тонкопленочных износостойких покрытий вакуумно-плазменным способом из электропроводного тугоплавкого материала – титана (TI), а также его соединений с газами (TIN , TIC) (нитриды, карбонитриды).
Предусмотрена возможность нанесения покрытий из других электропроводящих материалов, в том числе молибдена, циркония иодитного (Zr) и их соединений (нитриды, карбонитриды).
В состав установки входит:
откачной пост (с высоковакуумными средствами откачки, вакуумной системы и пневмогидроаппаратурой (Festo);
форвакуумный агрегат;
электрооборудование:
- контроллер управления откачным постом фирмы «Siemens»;
- микропроцессорное устройство напуска реактивных газов с автоматическим поддержанием рабочего давления (2-канала с обратной связью, ШИМ - управление);
- микропроцессорный регулятор температуры в вакуумной камере;
- два инверторных источника питания дуговыми испарителями.
- автоматическое устройством для работы в режиме очистки и осаждения.
Установка изготавливается как в моноблочном исполнении, так и со стойкой
По требованию заказчика может комплектоваться:
- ионным источником очистки и ассистирования (РИФ) с блоком питания;
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
1 |
Предельное давление в чистой, пустой и обезгаженной камере, при охлаждении ее холодной водой, Па (мм. Рт.ст.) |
1,33х10-3 (1х10-5) |
2 |
Время достижения давления 1,33х10-3 Па, мин |
20 |
3 |
Размеры рабочей камеры, мм диаметр высота |
700 700 |
4 |
Количество дуговых испарителей, шт. |
2 |
5 |
Скорость осаждения покрытия, мкм/час |
15-30 |
6 |
Микротвердость покрытия, кг/мм2 |
до 2400 |
7 |
Ток дуги, А |
65-130 |
8 |
Напряжение высоковольтного источника в рабочем режиме, В |
1200/600 |
9 |
Диапазон плавного регулирования опорного напряжения низковольтного источника, В |
0-250 |
10 |
Максимальный ток подложки при нормальном режиме, А |
10 |
11 |
Мощность установки, кВт не более |
15 |
12 |
Площадь, занимаемая установкой, м2 |
7 |
13 |
Масса установки, кг |
1400 |