Установка вакуумная модели ВУ- 2М оптическая
Оптическая вакуумная установка ВУ-2М предназначена для нанесения в вакууме покрытий на оптические детали методом электронно-лучевого и резистивного испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным фотометрическим контролем толщины покрытия.
Вакуумная установка обеспечивает возможность нанесения металлических, однослойных, просветляющих, ахроматических, интерференционных, зеркальных, фильтрующих, токопроводящих и других оптических покрытий для области спектра, ограниченной длинами волн в диапазоне 250-1100м/м.
Откачка камеры до начала проведения процесса напыления может производиться в ручном и автоматическом режимах.
В автоматический режим, кроме получения рабочего давления, включена ионная очистка деталей и нагрев деталей до заданной температуры с вращением арматуры.
Вакуумная установка должна эксплуатироваться на вакуумных участках и в лабораториях при температуре окружающего воздуха от 17 до 280С, относительной влажности от 40 до 75% и атмосферном давлении 8,4 х104 – 10,6х104 Па (630-800 мм рт. ст).
Вакуумная установка состоит:
- откачной пост (с высоковакуумными средствами откачки);
- агрегат форвакуумный АВР-60;
- комплекс фотометрического контроля толщины СФКТ-751В;
- стойка управления.
Технические характеристики:
| 1. | Рабочее давление в камере установки, Па | 6х10-4 |
| 2. | Время достижения остаточного давления 6х10-4 Па, мин | 30 |
| 3. | Количество/максимальная мощность испарителей, шт/кВА
|
2/6 1/4 |
| 4. | Количество ионно-лучевых источников/максимальный ионный ток, шт/А | 1/1 |
| 5. | Максимальная масса подложек, устанавливаемых на арматуру, кг | 10 |
| 6. | Максимальная температура нагрева подложек, °С | 320 |
| 7. | Скорость вращения арматуры, об/мин | 6-60 |
| 8. | Максимальное число слоев покрытия, получаемое в одном технологическом цикле под управлением АСУТП, шт | 32 |
| 9. | Мощность, потребляемая установкой, кВА | 40 |
| 10. | Общая площадь, занимаемая установкой, м2 | 8 |
| 11. | Масса установки, кг | 2150 |